La fotolitografía utiliza tres pasos básicos del proceso para transferir un patrón de una máscara a una oblea: recubrir, revelar, exponer. El patrón se transfiere a la capa superficial de la oblea durante un proceso posterior. En algunos casos, el patrón de resistencia también se puede usar para definir el patrón de una película delgada depositada.
¿Qué es la fotolitografía? ¿Cómo funciona?
La fotolitografía es un proceso de creación de patrones en el que un polímero fotosensible se expone selectivamente a la luz a través de una máscara, dejando una imagen latente en el polímero que luego puede disolverse selectivamente para proporcionar un acceso modelado a un sustrato subyacente.
¿Por qué se utiliza la fotolitografía?
La fotolitografía es uno de los métodos de microfabricación más importantes y sencillos, y se utiliza para crear patrones detallados en un material. En este método, se puede grabar una forma o patrón mediante la exposición selectiva de un polímero sensible a la luz a la luz ultravioleta.
¿Por qué se utiliza la luz ultravioleta en la fotolitografía?
La fotolitografía permite la encapsulación 3D de células dentro de hidrogeles mediante la reticulación del prepolímero que contiene las células bajo luz ultravioleta. Se utiliza una fotomáscara para obtener el patrón deseado [88].
¿Cuáles son los requisitos de fotolitografía?
En general, un proceso de fotolitografía requiere tres materiales básicos, fuente de luz, fotomáscara y fotoprotector. Photoresist, un material fotosensible, tiene dos tipos, positivo y negativo. La fotoprotección positiva se vuelve más soluble después de la exposición a una fuente de luz.